マスク製造工程 |
作業工程 | 装置名 | 主要メーカー |
|---|---|---|---|
| 01 回路・パターン設計 | |||
| 02 フォトマスク作成 | マスク描画装置 | ||
| 03 フォトマスク検査 | マスク検査装置 |
ウェーハ製造工程 |
作業工程 | 装置名 | 主要メーカー |
|---|---|---|---|
| 01 シリコンインゴット製造切断 | ワイヤソー | ||
| 02 ウェーハの研磨 | ラッピング・ポリッシング装置 | ||
| 03 ウェーハの検査 | 03 ウェーハの検査 |
前工程 |
作業工程 | 装置名 | 主要メーカー |
|---|---|---|---|
| 01 ウェーハ表面の酸化 | 熱処理装置 | ||
| 02 薄膜形成 | 薄膜形成装置(CVD装置) | ||
| 03 フォトレジスト塗布 | コータデベロッパー(レジスト塗布現像装置) | ||
| 04 露光・現像 | 露光装置 | ||
| 05 エッチング | エッチング装置 | ||
| 06 レジスト剥離・洗浄 | 洗浄装置 | ||
| 07 イオン注入 | イオン注入装置 | ||
| 08 平坦化 | CMP装置 | ||
| 09 電極形成 | スパッタリング装置 | ||
| 10 ウェーハ検査 | ウェーハ検査装置(プローブ) |
後工程 |
作業工程 | 装置名 | 主要メーカー |
|---|---|---|---|
| 01 グラインディング | グライディング装置 | ||
| 02 ダイシング | ダイシング装置 | ||
| 03 ダイボンディング | ダイボンディング装置 | ||
| 04 ワイヤーボンディング | ワイヤーボンディング装置 | ||
| 05 モールディング | モールディング装置 | ||
| 06 最終検査 | テスティング装置 |
| ロジック半導体 |
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| ファウンドリ (半導体製造受託) |
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SEMIジャパン調べ