ひと目で分かる
半導体業界MAP
(2025年版)

半導体製造装置

マスク製造工程
作業工程 装置名 主要メーカー
01 回路・パターン設計
02 フォトマスク作成 マスク描画装置
03 フォトマスク検査 マスク検査装置
ウェーハ製造工程
作業工程 装置名 主要メーカー
01 シリコンインゴット製造切断 ワイヤソー
02 ウェーハの研磨 ラッピング・ポリッシング装置
03 ウェーハの検査 03 ウェーハの検査
前工程
作業工程 装置名 主要メーカー
01 ウェーハ表面の酸化 熱処理装置
02 薄膜形成 薄膜形成装置(CVD装置)
03 フォトレジスト塗布 コータデベロッパー(レジスト塗布現像装置)
04 露光・現像 露光装置
05 エッチング エッチング装置
06 レジスト剥離・洗浄 洗浄装置
07 イオン注入 イオン注入装置
08 平坦化 CMP装置
09 電極形成 スパッタリング装置
10 ウェーハ検査 ウェーハ検査装置(プローブ)
後工程
作業工程 装置名 主要メーカー
01 グラインディング グライディング装置
02 ダイシング ダイシング装置
03 ダイボンディング ダイボンディング装置
04 ワイヤーボンディング ワイヤーボンディング装置
05 モールディング モールディング装置
06 最終検査 テスティング装置

半導体材料

レジスト
フォトマスク
マスクブランクス
ガス
メタルターゲット
スラリー

部品・コンポーネント(サブシステム)

MFC
(マスフローコントローラー)
流体制御
光源
レーザー

<「露光装置」用>

<「ウエハー検査装置」用>

質量分析装置
ダイヤモンド工具
パッド
高周波コントローラー

工場設備

配管システム
配電
液体窒素配給
超純水配給
クリン環境モニター
排水処理

SEMIジャパン調べ